半导体行业反渗透纯水设备
    发布时间: 2020-11-24 17:08    
半导体行业反渗透纯水设备

一、半导体行业反渗透纯水设备设计原始资料

以1T纯水为例,所涉及的流程及设备满足如下要求:

1、原水水质:自来水,具体水质情况详见需方水质检测报告:

2、产水用途:生产用水

3、系统出力: 

3.1)一级反渗透系统出力和出水水质:出力:≥1.5m3/h;回收率:≥65%;产水电导率:≤10μs/cm

3.1)二级反渗透系统出力和出水水质:出力:≥1.0m3/h;回收率:≥80%;产水电导率:≤5μs/cm

3.2) EDI系统出力和出水水质:出力:≥1m3/h;回收率:≥90%;电阻率:≥15MΩ.cm(25℃)

4、运行方式:全自动运行

5、供水方式: 24小时运行



二、半导体行业反渗透纯水设备设计参照的标准和要求


a、《钢制压力容器》(GB1.0-1998)

b、《水处理设备制造技术条件》(JB2923-99)

c、《橡胶衬里化工设备》(HGJ32-90)

d、国产设备的制造工艺和材料应符合国家劳动部文件,劳锅字[1990]8号《压力容器安全技术监察规程》

e、《橡胶衬里设备技术条件》(CD1.0A16)

f、 设备包装运输按JB2536-80《压力容器油漆、包装、运输》执行。

g、进口设备的制造工艺和材料应符合美国机械工程师协会(ASME)和美国材料试验学会(ASTM)的工业法规中涉及的标准或相当标准。


三、半导体行业反渗透纯水设备对外界要求如下:

3.1 原水

原水质量指标:自来水

供水:供水管道由需方送至原水箱进水口     流量:2.5T/H   出水:供方负责纯水出口3米范围内

3.2电源  

  1)供电:依据供应商提出的容量,由需方将动力线送至电控柜上。

2)低压电源: 380V/220V±10%、三相五线制、中心点直接接地

3)频率:50±0.5HZ

4)额定总功率:8kw3.3供气

无油、无水、干燥、清洁的压缩空气,由用户提供,由需方将压缩空气母管送至设备上,压缩空气强度为18~25L/m2·S,供气压力:0.3~0.5Mpa。3.4药剂 调试及运行过程中所消耗的药品:絮凝剂、阻垢剂,盐酸,氢氧化钠等由需方自备。