一、半导体行业反渗透纯水设备设计原始资料

以1T纯水为例，所涉及的流程及设备满足如下要求：

1、原水水质：自来水，具体水质情况详见需方水质检测报告：

2、产水用途：生产用水

3、系统出力： 

3.1）一级反渗透系统出力和出水水质：出力：≥1.5m3/h；回收率：≥65%；产水电导率：≤10μs/cm

3.1）二级反渗透系统出力和出水水质：出力：≥1.0m3/h；回收率：≥80%；产水电导率：≤5μs/cm

3.2） EDI系统出力和出水水质：出力：≥1m3/h；回收率：≥90%；电阻率：≥15MΩ.cm（25℃）

4、运行方式：全自动运行

5、供水方式： 24小时运行

二、半导体行业反渗透纯水设备设计参照的标准和要求

a、《钢制压力容器》（GB1.0－1998）

b、《水处理设备制造技术条件》（JB2923－99）

c、《橡胶衬里化工设备》（HGJ32-90）

d、国产设备的制造工艺和材料应符合国家劳动部文件，劳锅字［1990］8号《压力容器安全技术监察规程》

e、《橡胶衬里设备技术条件》（CD1.0A16）

f、 设备包装运输按JB2536-80《压力容器油漆、包装、运输》执行。

g、进口设备的制造工艺和材料应符合美国机械工程师协会（ASME）和美国材料试验学会（ASTM）的工业法规中涉及的标准或相当标准。

三、半导体行业反渗透纯水设备对外界要求如下：

3.1 原水

原水质量指标：自来水

供水：供水管道由需方送至原水箱进水口     流量：2.5T/H   出水：供方负责纯水出口3米范围内

3.2电源  

  1）供电：依据供应商提出的容量，由需方将动力线送至电控柜上。

2）低压电源： 380V/220V±10%、三相五线制、中心点直接接地

3）频率：50±0.5HZ

4）额定总功率：8kw3.3供气

无油、无水、干燥、清洁的压缩空气，由用户提供，由需方将压缩空气母管送至设备上，压缩空气强度为18～25L/m2·S，供气压力：0.3～0.5Mpa。3.4药剂 调试及运行过程中所消耗的药品：絮凝剂、阻垢剂，盐酸，氢氧化钠等由需方自备。