一、半导体行业反渗透纯水设备设计原始资料
以1T纯水为例,所涉及的流程及设备满足如下要求:
1、原水水质:自来水,具体水质情况详见需方水质检测报告:
2、产水用途:生产用水
3、系统出力:
3.1)一级反渗透系统出力和出水水质:出力:≥1.5m3/h;回收率:≥65%;产水电导率:≤10μs/cm
3.1)二级反渗透系统出力和出水水质:出力:≥1.0m3/h;回收率:≥80%;产水电导率:≤5μs/cm
3.2) EDI系统出力和出水水质:出力:≥1m3/h;回收率:≥90%;电阻率:≥15MΩ.cm(25℃)
4、运行方式:全自动运行
5、供水方式: 24小时运行
二、半导体行业反渗透纯水设备设计参照的标准和要求
a、《钢制压力容器》(GB1.0-1998)
b、《水处理设备制造技术条件》(JB2923-99)
c、《橡胶衬里化工设备》(HGJ32-90)
d、国产设备的制造工艺和材料应符合国家劳动部文件,劳锅字[1990]8号《压力容器安全技术监察规程》
e、《橡胶衬里设备技术条件》(CD1.0A16)
f、 设备包装运输按JB2536-80《压力容器油漆、包装、运输》执行。
g、进口设备的制造工艺和材料应符合美国机械工程师协会(ASME)和美国材料试验学会(ASTM)的工业法规中涉及的标准或相当标准。
三、半导体行业反渗透纯水设备对外界要求如下:
3.1 原水
原水质量指标:自来水
供水:供水管道由需方送至原水箱进水口 流量:2.5T/H 出水:供方负责纯水出口3米范围内
3.2电源
1)供电:依据供应商提出的容量,由需方将动力线送至电控柜上。
2)低压电源: 380V/220V±10%、三相五线制、中心点直接接地
3)频率:50±0.5HZ
4)额定总功率:8kw3.3供气
无油、无水、干燥、清洁的压缩空气,由用户提供,由需方将压缩空气母管送至设备上,压缩空气强度为18~25L/m2·S,供气压力:0.3~0.5Mpa。3.4药剂 调试及运行过程中所消耗的药品:絮凝剂、阻垢剂,盐酸,氢氧化钠等由需方自备。